Entreprise | Actions |
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Personne | Réseau | Fonction | Mode de signature | Depuis | à |
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Afficher 19 entreprises | associé | signature individuelle | 17.04.2019 | ||
Afficher 1 entreprise | associé | signature individuelle | 17.04.2019 | ||
Afficher 1 entreprise | associé | signature individuelle | 17.04.2019 |
Siège |
Zürich (ZH) |
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But |
Entwicklung und Vertrieb von Risikomanagement-Software für Unternehmen.
Afficher plus
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IDE |
CHE-468.192.506 |
Numéro fédéral |
CH-020.2.008.293-6 |
Registre du Commerce |
Canton Zurich |
Extrait du registre du commerce |
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1 entreprise avec le même domicile: Scheuchzerstrasse 7, 8092 Zürich
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Radiation Syntherion KlG
Rubrique: Inscriptions au registre du commerce
Sous rubrique: Radiation
Syntherion KlG, in Zürich, CHE-468.192.506, Kollektivgesellschaft (SHAB Nr. 75 vom 17.04.2019, Publ. 1004612312). Die Gesellschaft hat sich aufgelöst. Der Geschäftsbetrieb ist nie aufgenommen worden. Aktiven und Passiven sind keine vorhanden. Die Gesellschaft wird gelöscht.
FOSC: 6 du 11.01.2021
Registre journalier: 987 du 06.01.2021
Numéro de publication: HR03-1005069945
Cantons: ZH
Nouvelle inscription Syntherion KlG
Rubrique: Inscriptions au registre du commerce
Sous rubrique: Nouvelle inscription
Syntherion KlG, in Zürich, CHE-468.192.506, c/o ETH Zürich, D-MTEC, Entrepreneurial Risks, SEC F 4, Scheuchzerstrasse 7, 8092 Zürich ETH-Zentrum, Kollektivgesellschaft (Neueintragung).
Beginn:
05.04.2019.
Zweck:
Entwicklung und Vertrieb von Risikomanagement-Software für Unternehmen.
Eingetragene Personen:
Heide, Fabian Alexander, deutscher Staatsangehöriger, in Berlin (DE), Gesellschafter, mit Einzelunterschrift; Hoffmann, Christian Hugo, deutscher Staatsangehöriger, in Zürich, Gesellschafter, mit Einzelunterschrift; Krawczuk, Igor, deutscher Staatsangehöriger, in Renens (VD), Gesellschafter, mit Einzelunterschrift.
FOSC: 75 du 17.04.2019
Registre journalier: 14974 du 12.04.2019
Numéro de publication: HR01-1004612312
Cantons: ZH
Inclut l'accès à toutes les informations de base, aux marques et à 2 surveillances.
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